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中芯国际核心技术人员离职原因是什么 曾任研发副总裁主导N+1工艺(2)

来源:未知 作者:admin 人气: 发布时间:2021-07-05
摘要:一位曾在中芯国际的研发人员告诉第一财经,吴金刚主导开发了中芯国际N+1工艺。根据中芯国际公告,吴金刚于2001年加入中芯国际,2001 年至 2014 年,历任助理总监、总监、资深总监,2014 年至今担任技术研发副总裁,
 
一位曾在中芯国际的研发人员告诉第一财经,吴金刚主导开发了中芯国际N+1工艺。根据中芯国际公告,吴金刚于2001年加入中芯国际,2001 年至 2014 年,历任助理总监、总监、资深总监,2014 年至今担任技术研发副总裁,任职期间负责参与中芯国际FinFET 先进工艺技术研发及管理工作。
 
在今年一季度财报会上,中芯国际透露,先进工艺方面,其第一代 FinFET工艺已经进入量产阶段,产品良率达到业界标准,多个衍生平台开发按计划进行,NTO(new tape out)稳步导入,正在实现产品的多样化目标;第二代FinFET工艺进入风险量产。不过,实体清单管制给先进制程带来的风险和不确定性也更大。


 
吴金刚博士离职原因是什么?上述员工表示,吴金刚与中芯国际联席CEO梁孟松“不对付”或许是其离职原因之一。
 
中芯国际称,公司研发团队总体相对稳定。吴金刚已完成与研发团队的工作交接, 吴金刚的离职不会对公司的技术研发和生产经营带来实质性影响,不会影响公司持有的核心技术。



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